QJW/L系列磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線，采用平面或圓柱磁控濺射靶，可以在大平板浮法玻璃、亞克力板上鍍制金屬單質(zhì)膜、復(fù)合膜、L E輻射膜，也可在小彎的弧形玻璃上鍍膜。廣泛用于幕墻玻璃、家電及電子產(chǎn)品等的鍍膜。主要性能特點(diǎn)：根據(jù)用戶要求可做成臥式或立式結(jié)構(gòu)；多真空室、多鍍膜室結(jié)構(gòu)，鍍膜效率高、質(zhì)量更穩(wěn)定；采用先進(jìn)的圓柱形或平面形磁控濺靶，提高成膜速度；配置性能先進(jìn)、可靠的磁控濺射直流電源及質(zhì)量流量計(jì)充氣系統(tǒng)，使膜層質(zhì)量穩(wěn)定；采用可編程控制器(PLC)，觸摸屏（HMI）人機(jī)控制界面，操作簡(jiǎn)單易用，手動(dòng)/自動(dòng)控制自 由切換；