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湖南宇晶20B研磨拋光機(jī)

產(chǎn)品信息

產(chǎn)品詳細(xì)

3電機(jī),重7噸/臺(tái),用1年多,機(jī)器狀況良好未磨損。工廠倒閉所以低價(jià)售出,新機(jī)器價(jià)格85萬左右?!”緳C(jī)器主要用于硅片、砷化鎵片、陶瓷片、石英晶體及其它半導(dǎo)體材料的雙面高精度研磨或拋光,也適用于其它金屬、非金屬、光學(xué)玻璃等硬、脆、薄材料的雙面高精度研磨或拋光。 機(jī)器采用四電機(jī)驅(qū)動(dòng),下盤、上盤、內(nèi)齒圈和太陽輪分別由電機(jī)單獨(dú)驅(qū)動(dòng)。   機(jī)器整體結(jié)構(gòu)緊湊,運(yùn)行平穩(wěn),有效地縮短各傳動(dòng)軸的長度,增加機(jī)器的機(jī)械剛度。   內(nèi)齒圈、太陽輪同步升降并采用點(diǎn)動(dòng)操作方式。   上盤裝置增加機(jī)械的安全裝置,在擺片、維修等狀態(tài)下不會(huì)因突然故障而下降,增加了安全性。   通過改變內(nèi)齒圈、太陽輪的速度,調(diào)整實(shí)現(xiàn)游星輪的正、反轉(zhuǎn)。磨盤尺寸:φ1355×φ457×50(mm)工件厚度:大:40(mm)    ?。?.5(mm)工件直徑:大:φ440(mm)下盤轉(zhuǎn)速:0~50(rpm)游星輪數(shù)量:5 游星輪參數(shù):Z=170      Mn=3上盤壓力范圍:20~700(Kg)電源/耗電量:3相-380V/30KVA氣源/耗氣量:0.5(Mpa)/30(L/min)  主機(jī)尺寸:2650×1850×2750(mm)機(jī)器重量:~8000(Kg) 

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