使用波長覆蓋紫外、可見、紅外光，拋光后透光率高； 根據(jù)材料可分為多晶CaF2和單晶CaF2，二者在保護性窗口和普通紅外成像應用過程，并無太大區(qū)別。但在高質(zhì)量成像和激光方面，大多使用單晶體。單晶CaF2默認方向為《111》，也可根據(jù)客戶要求定向，但會增加材料損耗，影響價格； 根據(jù)使用波段可分為紫外CaF2和紅外CaF2;應用上紫外材料僅是在紫外波段（190-350nm）有著更好的透過率，其他波段與紅外沒有太大區(qū)別，但因其對材料的應力雙折射和熒光性要求較高，導致原材料純度也相應提高，價格也有大幅度的上升。      CaF2平面光學加工指標   項目 常規(guī)指標 極限指標 直徑 φ5-150mm+0/-0.2 φ3-150mm+0/-0.2 厚度 1-50mm+/-0.1 0.2-50mm+/-0.02 角精度 3分 5秒 光潔度 60/40 40/20 面形 N<λ/2@633nm（50mm內(nèi)） N<λ/10@633nm（50mm內(nèi)） 有效通光孔徑 >90% >95% 倒角 保護性<0.5mmX45度 保護性<0.5mmX45度