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優(yōu)質(zhì)BBO晶體(福州宇晶光電)

產(chǎn)品信息

產(chǎn)品詳細

福州宇晶光電是一家BBO晶體的專業(yè)供應商。可接受客戶不同尺寸規(guī)格的BBO晶體定制,也可根據(jù)客戶具體應用需求推薦相應的BBO晶體。 描述: BBO晶體( β相偏硼酸鋇晶體,β-BaB2O4 )是具有綜合優(yōu)良性能的非線性光學晶體,其寬透明范圍和相匹配范圍,大的非線性系數(shù),高的抗光損傷閾值、寬溫度帶寬以及優(yōu)越的光學均勻性,為各種非線性光學應用提供了實際可能性。目前國際上主要用于將800nm左右鈦寶石激光器倍頻至400nm左右紫外光,和一些皮秒飛秒脈沖工業(yè)激光器的倍頻以及OPO系統(tǒng),電光開關(guān)等。   BBO晶體的主要特點: 可實現(xiàn)相位匹配的波段范圍寬(409.6—3500nm); 寬透明范圍(190—3500nm); 倍頻轉(zhuǎn)換效率高(相當于KDP晶體的6倍); 高損傷域值(100ps脈寬的1064nm  10GW/cm2); 光學均勻性好(dn10-6); 溫度接收角寬(≈55℃左右); 機械,物理性能好. BBO晶體的主要應用:    Nd:YAG和Nd:YLF激光的二、三、四、五倍頻; 染料激光器和鈦寶石激光器的二、三倍頻及和頻; 光學參量放大器(OPA)與光學參量振蕩器(OPO); 氬離子,紅寶石和Cu蒸汽激光器的倍頻.  BBO晶體的產(chǎn)品規(guī)格:  尺寸公差 (W±0.1mm) x ( H±0.1mm) x (L+0.2mm/-0.1mm) 角度公差 Δθ< 0.25°, Δφ< 0.25° 平面度 λ/10 @ 633nm 波前畸變 < λ/8 @ 633nm 表面光潔度 10/5 scratch/dig 平行度 < 20 arc seconds 垂直度 < 5 arc minutes 通光孔徑 ≥中心直徑95% 倒邊  x 45°±5°chamfer 鍍膜 R < 0.2% @ 1064nm, R < 0.5% @ 532nm 損傷閾值(AR鍍膜) >0.5 GW/cm2 for 1064nm,TEM00,10ns,10HZ >0.3 GW/cm for 532nm,TEM00,10ns,10HZ  注:福州宇晶光電可接受客戶不同尺寸規(guī)格的BBO晶體定制,也可根據(jù)客戶具體應用需求推薦相應的BBO晶體。

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