本系統(tǒng)應(yīng)用于磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線不同部位的單點(diǎn)透射光譜集合，可部署在原片透射光譜測量、靶室內(nèi)透射光譜測量、以及成品的橫向縱向多點(diǎn)透射光譜測量，位置靈活可根據(jù)客戶需求任意布置。   設(shè)備采用網(wǎng)絡(luò)化連接，配置靈活 自動動態(tài)校準(zhǔn)技術(shù)，設(shè)備長時(shí)間無漂移 獨(dú)有的光學(xué)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，消除抖動及雜散光影響 靶室內(nèi)探頭采用密封光纖，減少信號衰減 自主開發(fā)軟件系統(tǒng)，適合國內(nèi)用戶使用習(xí)慣  銷售經(jīng)理：王秀芹 158 111 86705