氧化鋅是一種透明導電膜材料。以ZnO粉末和Al2O3粉末為主要原料,以常壓、空氣氣氛燒結為手段制備透明導電膜用ZnO陶瓷靶材。研究結果表明:粉末成型壓力為3MP時,靶材電學性能佳;當Al:Zn原子比為4.100時,ZnO的電阻率低,達4.1×10~(-3)Ω·㎝,當Al摻雜量超過某一數(shù)值后,Al不再以替位離子形式存在,而是與周圍的Zn、O原子共同作用,生成鋅鋁尖晶石相,從而導致材料的電阻率升高。在1350℃時,表面形貌上靶材表面晶粒間結合的致密。從斷面形貌看,氣孔較少,主要存在晶粒交界處,氣孔圓化,基本上達到了陶瓷靶材的燒結終點。當選取Al粉作為摻雜時,溫度系列可以看出,在1050℃晶粒尺寸大,同時得到的電阻率相對較低。       鈮鋯合金既保持了鈮的低溫塑性,具有比純鈮高的力學性能。鋯加入鈮中可提高合金的強度而不影響合金的塑性和加工性能,提高鈮的高溫強度和高溫舒緩反應性,鋯還可以改善合金的舒緩反應性和抗堿金屬腐蝕性能。NbZr10是一種新型的功能性鈮合金材料,經(jīng)過電弧爐熔煉,加入活性金屬元素Zr進行固溶強化,同時加入C元素進行時效強化,通過適當?shù)募庸ず蜔崽幚韥砜刂瞥恋硐嗵蓟锏男螒B(tài)的分布,以提高NbZr10合金材料的強度,并且能夠較大的改善該合金高溫抗蠕變性能。通過控制鈮板和鋯板原料雜質(zhì)成分,以控制合金鑄錠的間隙元素含量,保合金成分合理。NbZr10合金鑄錠整體成分較均勻。利用熱軋試驗對NbZr10合金進行高溫加工，合金坯料變形均勻,沒有明顯裂邊現(xiàn)象,合金籌備為顯著的熱加工流線型,發(fā)生回復再結晶。提高其綜合力學性能。       硅鋁旋轉(zhuǎn)靶材為黑色。厚度9.1mm，用阿基米德排水法檢測密度為2.209g/cm3，相對密度為93.6％，電阻率為11.2mΩ.cm，說明其結構致密、導電性較好，且檢測無裂紋。同時，與真空等離子噴涂等方式比較，本實施例的制備方法無需進行抽真空、充保護氣體等步驟，從而成本較低、生產(chǎn)過程簡單便捷。本實施例引入在V型機中進行混粉的步驟，確保產(chǎn)品成分較為均勻。實施例3高致密度的硅鋁旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法，具體為在外徑133mm，長度850mm的靶材背管上，噴涂不低于4mm厚的硅鋁靶材。包括以下步驟：(1)制備噴涂粉末；(2)預處理靶材背管；(3)對靶材背管噴涂打底層；(4)用等離子噴涂工藝在靶材背管上制備硅鋁靶材。其中：步驟(1)中。       磁控濺射靶材廣泛應用于用于建筑/汽車玻璃工業(yè)、薄膜太陽能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著國內(nèi)靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展，國內(nèi)已有靶材供應商、制造商的生產(chǎn)出來的靶材達到了***的水平。在廣州，尤特新材料成為大部分國家大部分國家個研制長、厚旋轉(zhuǎn)靶材的制造商，隨著研發(fā)的持續(xù)投入，國內(nèi)靶材行業(yè)的未來值得期待。磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射靶商。si。       長率達到18%。受機械硬盤出貨容量增長的帶動，記錄媒體靶材需求穩(wěn)定增長。薄膜太陽能電池效率存在提升空間，靶材需求。硅電池的效率已經(jīng)接近其理論值，而薄膜太陽能電池的效率在逐年提高。據(jù)預測，年會呈現(xiàn)逐年遞增的趨勢，并于2023年打破395億美元大關。平板顯示靶材需求增加。目前，UVTM已掌握了銅、鋁等濺射靶材原材料提純的核心技術。HIT電池結構，中間襯底為N型晶體硅，通過PECVD方法在P型a-Si和c-Si之間插入一層10nm厚的i-a-Si本征非晶硅，在形成pn結的同時。背面為20nm厚的本征a-Si：H和N型a-Si：H層，在鈍化表面的同時可以形成背表面場。由于非晶硅的導電性較差，射技術濺射TCO膜進行橫向?qū)щ?。山面?      鍍膜靶材可以應用到LED、OLED、LCD、PDP、VFD、FED、LCOS、DLP、CRT等顯示行業(yè)中各種功能層。平板顯示器主要分為觸控面板和液晶面板。觸控面板（TouchPanel），又稱為觸摸屏，啟睿新材料主要為客戶提供電阻式、電容式觸摸屏高品質(zhì)靶材，其種類包括：ITO靶材、硅靶材、鈮靶材、鉬靶材、鉭靶材、鋁靶材、鉻靶材等。濺射準備保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物，需要進行高溫帖合的條件下，無氧化銅容易被氧化和發(fā)生翹曲,所以會使用金屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數(shù)無法與無氧銅匹配，同樣也需要使用金用。       由于HJT電池的工藝要求較高，因此ITO濺射靶材的比例和純度非常重要。什么是高純?yōu)R射靶材？就是利用各種高純單質(zhì)貨品及新型化合物制得的功能薄膜為（簡單理解就是純度更高），主要用于對材料純度、穩(wěn)定性要求更高的領域，像集成電路、平板顯示器、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應用領域中，半導體芯片對濺射靶材的要求是比較高的，要求靶材純度很高，一般在5N（99.999%）以上。日本在電子行業(yè)的上游材料領域占據(jù)了優(yōu)勢，在硅晶圓材料、光罩、靶材等重要的細分子領域的市場份額都超過50%。高純靶材用量較大的行業(yè)主要有半導體集成電路、平板顯示器、太陽能電池、磁記錄介質(zhì)、光學器件等。AZO靶材是其中一種制造高科技節(jié)能玻璃鍍膜材料。       面板靶材：主要用于制作ITO玻璃及觸控屏電極平板。當前國內(nèi)平板顯示和光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速,ITO靶材制造技術不斷取得打破,未來我國將可能會成為銦純***國,應大力發(fā)展國內(nèi)更新銦產(chǎn)業(yè),建立健全銦儲備機制,并加強與重要資源國的產(chǎn)能合作,保障國內(nèi)新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展的資源需求。銦作為稀散金屬在地殼中含量極低,但資源儲量和產(chǎn)量分布極為集中。銦在戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展中具有極為重要的作用,是平板顯示、電子半導體和光伏等產(chǎn)業(yè)不可或缺的原料,使其成為世界各國關注的熱點。顯示行業(yè)主要在顯示面板和觸控屏面板兩個產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節(jié)需要使用靶材濺射鍍膜。用于高清電視、筆記本電腦等。平板顯示靶材技術要求也很高，它要求材料高純度、面積大、均勻性程度高。合金靶材：鐵鈷靶、鋁硅靶、鈦硅靶、鉻硅靶、鋅鋁靶、鈦鋅靶材、鈦鋁靶、鈦鋯靶、鈦硅靶、鈦鎳靶、鎳鉻靶、鎳鋁靶、鎳釩靶、鎳鐵靶等。ito****。